今天明道小編要給大家介紹的是標(biāo)識(shí)牌制作中的腐蝕工藝， 歡迎咨詢明道技術(shù)人員（TEL：0519-87874444）了解詳情！
　  1、硅片去層作業(yè)：⑴、堿洗去層：在反應(yīng)容器中配制20-40%的氫氧化鈉溶液為腐蝕溶液，將硅片加入堿鍋里進(jìn)行腐蝕，根據(jù)硅片的結(jié)深確定腐蝕時(shí)間，一般為30---120秒。用漏勺撈起看硅料表面是否光亮無(wú)雜質(zhì)。
 
　　⑵、沖洗殘堿：在沖洗槽中將硅片上附著的殘堿沖洗干凈。
 
　?、恰⒊暡ǔ矗孩?、在超聲波內(nèi)注入足量純凈水以能夠淹沒硅片為準(zhǔn)。②、將10－15千克的硅片用純凈水沖凈，倒入清洗槽內(nèi)，打開超聲機(jī)清洗開關(guān)，每10分鐘將硅片全部翻動(dòng)一次，以免疊片時(shí)夾雜雜質(zhì)，無(wú)法清洗出來(lái)。清洗20分鐘換兩次水后關(guān)閉超聲清洗開關(guān)，將槽內(nèi)清洗水放盡。③、用高純水再超兩次（每次10分鐘），每3分鐘將硅片翻動(dòng)一次，最后關(guān)閉超聲波開關(guān)，放盡清洗水，翻動(dòng)硅片，將雜質(zhì)和殘留硅片上的清洗水沖盡。④、氫氟酸浸泡：在浸泡池中配置15%～25%的氫氟酸溶液，將硅片放入浸泡池內(nèi)浸泡5-6分鐘，并攪拌硅片避免疊片。或用1：15－20的混酸進(jìn)行清洗30S左右。⑤、沖洗殘酸：在沖洗槽中將硅片殘酸沖洗干凈。
 
　?、?、超聲波清洗：A、在超聲波內(nèi)注入足量純凈水以能夠淹沒硅片為準(zhǔn)。
 
　　B、將10－15千克的硅片用純凈水沖凈，倒入清洗水槽內(nèi)，打開清洗開關(guān)，每10分鐘將硅片全部翻動(dòng)一次，以免疊片時(shí)夾雜雜質(zhì)，無(wú)法清洗出來(lái)。超聲時(shí)間按車間具體規(guī)定執(zhí)行。
 
　　C、用高純水沖洗硅片，將殘留雜質(zhì)沖凈。
 
　　D、用高純水沖洗將雜質(zhì)和殘留硅片上的清洗水沖盡。
 
　　E、脫水：用紗網(wǎng)，每次放硅片5-6千克到脫水機(jī)中脫水2分鐘。
 
　　F、沖洗：將硅片放入沖洗槽中沖洗并攪拌。
 
　　G、烘干：將硅片放入花籃中，堆積厚度小于２厘米，并將硅片用塑料棒劃通氣縫。烘箱溫度調(diào)至115℃，烘干2～4小時(shí)。
 
　　2、硅片浸泡作業(yè)：
 
　?、?、濕法蝕刻工藝：將硅片倒入浸泡池中，體積不超過(guò)浸泡池的2/3。在浸泡池中倒入腐蝕溶液。腐蝕溶液為氫氟酸49-59%的工業(yè)純刻蝕溶液，浸泡12小時(shí)后，放出酸液，將硅片沖洗干凈。
 
　　⑵、去除金屬沾污：配制王水溶液，根據(jù)氣溫變化稀釋至30-50%的濃度，浸泡12小時(shí)后，放出酸液，將硅片沖洗干凈。
 
　?、恰⒍螡穹ㄎg刻工藝：將硅片倒入浸泡池中，體積不超過(guò)浸泡池的2/3。在浸泡池中倒入腐蝕溶液。腐蝕溶液配比為HF：NH4F=（6-10）工業(yè)氫氟酸，浸泡：112小時(shí)后，放出酸液，將硅片沖洗干凈。